T3 SHORT External Hex, Parallel, Ø5xL5 mm, 1 stk.

3i T3 SHORT Implantatets længde og funktioner er designet til at give en implantatbehandlingsmulighed i nogle udfordrende kliniske tilfælde, hvor knoglehøjden er utilstrækkelig til standardlængdeimplantater. I områder med minimal knoglehøjde kan implantatbehandling kræve komplekse kirurgiske procedurer, såsom:

• En sinus lift procedure i maxilla
• Vertikal ridge augmentation i madiblen på grund af nærheden til mandibular nerve

3i T3 External Hex implantatet er designet til at levere æstetiske resultater gennem vævsbevaring og for stabilitet og optimeret placering.

• External Hex
• Parallelt (paralled walled) implantat
• Overflade: uden DCD (DCD = Diskret krystallinsk aflejring af calciumfosfatkrystaller på nanometerskala)
• Moderne hybridoverflade leveret af kompleks multi-overflade topografi
• Peri-implant defense med Osseotite-overflade (Dual Acid Etched), beskrevet som uden højere risiko for peri-implantitis end maskinbearbejdet titanium og med støtte til sund knogleniveaubevarelse
• Seal Integrity leveres af en stabil og tæt implantat/abutment-grænseflade
• Grove og fine mikron overfladefunktioner skaber en gennemsnitlig overfladeruhedsværdi på 1,4 μm i den gevindskårne del af implantatet
• Materiale: Kommercielt ren titanium grad 4